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01-03-01
濕法制絨設(shè)備
產(chǎn)品功能
1.去除切割損傷層和表面臟污
2.使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率
3.增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也響應(yīng)增加
1.去除切割損傷層和表面臟污
2.使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率
3.增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也響應(yīng)增加
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| 項目 | 參數(shù) |
| 功能 | 1.去除切割損傷層和表面臟污 2.使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率 3.增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也響應(yīng)增加 |
| 優(yōu)勢 | ≥16000PCS/H（6籃182）;≥12000PCS/H（4籃182）， ≥13500PCS/H（6籃210）;≥10000PCS/H（4籃210） 碎片率≤0.01%，Uptime≥98%。進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。 采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。 工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽內(nèi)控溫精度誤差＜±1℃。 |
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